Fujifilm profitera de sa présence au salon IFRA Expo 2011 (Hall B Stand 140) pour démontrer comment sa gamme très étendue de solutions de plaques et de chimie presse peut aider les imprimeurs de journaux à optimiser leur production offset. Grâce aux dernières technologies de Fujifilm, les imprimeurs de journaux vont pouvoir améliorer leur efficacité, réduire les coûts ainsi que leur empreinte écologique et assurer à leurs  opérateurs une sécurité accrue : autant de points essentiels dans les environnements d’impression de journaux actuels.

Fort d’un partenariat fructueux avec le constructeur Krause, Fujifilm exposera en fonctionnement sur son stand le système CtP LS Performance, le module de traitement BlueFin Lo-Chem et la plaque à chimie réduite Brillia PRO-VN. Cette combinaison constitue la solution la plus en pointe dans le domaine de la production de plaque pour les journaux, présentant les niveaux de consommation de chimie et d’eau les plus bas du marché ainsi qu’une maintenance minimale.

La plaque thermique pour la Presse Brillia LH-NN2 sera également en vedette sur le stand. Cette plaque haute sensibilité, augmentant la durée de vie du laser et du développeur, possède une grande lattitude d’exposition. Elle bénéficie également de la technologie brevetée MultiGrain™ de Fujifilm pour une consommation d’encre réduite et une meilleure balance eau/encre. La Brillia LH-NN2 est le produit idéal pour les applications journaux requierant une haute qualité et de longs tirages.

Fujifilm démontrera également comment ses solutions de chimie presse améliorent l’efficacité, réduisent l’empreinte écologique et augmentent la sécurité des opérateurs des sites d’impression de journaux. A titre d’exemple, la gamme S1 des solutions de mouillage, sans étiquette de sécurité avec un niveau de COV bas (<0,1 %), a des propiétés tendant à réduire l’apparition de mousse et à faciliter le démarrage tout en permettant de réduire les paramètres de mouillage. La gamme S1 s’enrichit désormais de solutions de lavage, également à bas niveau de COV, disposant d’une puissance de nettoyage très importante.

“Nous espérons que IFRA Expo sera un évènement très fréquenté cette année et l’opportunité pour nous de démontrer comment nos solutions de référence seront les outils qui permettront aux imprimeurs d’atteindre la qualité requise rapidement et à un coût minimal,” explique Ryuta Masui, vice-président senior de FUJIFILM Europe GmbH. “Nous serons heureux d’accueillir les visiteurs sur le stand Fujifilm Hall B 140.”